Notice: Undefined index: HTTP_ACCEPT_LANGUAGE in /var/www/kos.fs.cvut.cz/web/lib_locale.php on line 9

Notice: Undefined index: HTTP_ACCEPT_LANGUAGE in /var/www/kos.fs.cvut.cz/web/lib_locale.php on line 11
KOS.FS - fakultní nadstavba
Plazma a materiály (W32OZ004)
Katedra:ústav materiálového inženýrství (12132)
Zkratka:Schválen:27.01.2021
Platí do: ??Rozsah:52P+26C
Semestr:Kredity:
Zakončení:ZKJazyk výuky:CS
Anotace
Moderní technologie založené na generování plazmy budou představeny jako efektivní nástroj pro tvorbu nových materiálů a jejich modifikaci. Použití technologií bude zahrnovat povrchové úpravy jak kovových materiálů, tak i polymerních a kompozitních materiálů, například z oblasti nanomateriálů a nanoprášků

Osnova
Základní a speciální technologie a jejich využití v materiálovém inženýrství
•Povlaky připravované metodami PVD a CVD
•Povlaky připravované kombinací metod PACVD nebo HIPIMS
•Nástřiky (plazmatické, HVOF, cold spraying)
•Plazmová polymerizace a modifikace povrchu
•Mechanické vlastnosti (tloušťka, adheze, nanotvrdost, tribologie, drsnost)
•Chemické složení a morfologie (EDS, WDS, EBSD, XPS, SEM, TEM, XRD)
•Aplikace plazmových nástřiků
•Laserové aplikace
•Aplikace PVD a CVD vrstev (automobilový průmysl, lékařství, atd.)
•Modifikace povrchu (adheze, smáčivost)
Literatura
•Chiow San Wong, Rattachat Mongkolnavin, Elements of Plasma Technology, SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology, Springer, 2015, ISBN 9811001170.
•Riccardo d’Agostino, Pietro Favia, Yoshinobu Kawai,Hideo Ikegami, Noriyoshi Sato, and Farzaneh Arefi-Khonsari eds. : Advanced Plasma Technology. WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 2008
•Non-Thermal Plasma Technology for Polymeric Materials: Applications in Composites, Nanostructured Materials, and Biomedical Fields. Sabu Thomas, Miran Mozetic, Uros Cvelbar, Petr Spatenka, K.M. Praveen, Elsevier Science, 2018, ISBN: 0128131527, 9780128131527.
data online/KOS/FS :: [Helpdesk] (hlášení problémů) :: - datum tisku: 19.4.2024, 21:41 © 2011-2022 [CPS] v3.8 (master/4ba2e75e/2023-03-03/01:20)